公司成立于2018年,總部位于中國青島,并在北京、上海設有研發中心。思銳智能主要聚焦關鍵半導體前道工藝設備的研發、生產和銷售,提供具有自主可控的核心關鍵技術的系統裝備產品和技術服務方案。公司產品包括原子層沉積(ALD)設備及離子注入(IMP)設備,廣泛應用于集成電路、第三代半導體、新能源、光學、零部件鍍膜等諸多高精尖領域。
2018年,公司完成對ALD技術發源地--芬蘭倍耐克公司100%股權的收購工作。整合倍耐克海外前沿技術研發資源,開展ALD技術國內外聯合研發與國內產業化落地工作,建立了完善的ALD產品體系,覆蓋全球眾多頭部客戶并在眾多細分領域取得領先的市場競爭地位。目前思銳智能及其子公司擁有300余項相關專利,在ALD技術及應用方面具備雄厚的技術積累。
公司在推進ALD業務轉型升級后,布局離子注入設備業務并取得突破。思銳智能以高能離子注入機為切入點開展研發,解決國內高端離子注入機”卡脖子“問題,逐步完成硅基及化合物半導體領域全系列機型的布局。
公司已成為擁有全球客戶拓展能力的中高端半導體裝備生產制造商業務范圍覆蓋全球40個國家及地區,累計超過500個全球客戶。
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